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當前位置:首頁 >產品中心>精密實驗爐設備>高溫真空爐>HFL 16/16-HFL 160/17高溫真空爐
簡要描述:高溫真空性密封罐爐配有密封罐外間接加熱裝置,特別適于規(guī)定的爐膛內保護氣或反應氣熱處理操作。窯爐的有效空間由一個氣密性密封罐組成,在爐門上配有水冷系統,以建立特殊的密封保護。根據窯爐應用溫度范圍的不同,我們推薦您選用相應的爐型,以取得溫度分布效果。基本爐型的溫度均勻度已達到ΔT 30K(符合DIN 17052標準,溫度高于800℃)。
產品分類
精密實驗爐設備
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詳細介紹
產品介紹:
名稱:高溫真空爐
品牌:納博熱
型號:HFL 16/16-HFL 160/17
產地:德國
特點:溫度1600℃或1700℃,優(yōu)質的二硅化鉬(MoSi2)加熱元件,優(yōu)質的輕質耐火磚保溫結構和后部絕熱設計。儀器簡介:
這種氣密性密封罐爐配有密封罐外間接加熱裝置,特別適于規(guī)定的爐膛內保護氣或反應氣熱處理操作。窯爐的有效空間由一個氣密性密封罐組成,在爐門上配有水冷系統,以建立特殊的密封保護。根據窯爐應用溫度范圍的不同,我們推薦您選用相應的爐型,以取得溫度分布效果。基本爐型的溫度均勻度已達到ΔT 30K(符合DIN 17052標準,溫度高于800℃)。如想進一步優(yōu)化窯爐的溫度均勻度,甚至在其他的溫度范圍內也達到ΔT 10K,可加配不同的附加裝置:
在500℃左右以下的工作范圍內,窯爐加配氣體循環(huán)裝置,在爐門內安裝快速運轉風扇。在500℃和800℃之間,加熱裝置應實現額外的三區(qū)式分布和溫控。在800℃以上,不帶氣體循環(huán)裝置的三區(qū)式溫控是正確的選擇。基本爐型專為不可燃保護氣操作而設計。我們也能為您提供其他裝置,以實現其余類型的氣體和安全的氫氣操作。通過使用各種不同的額外裝置,例如級聯調節(jié)裝置,窯爐可進行優(yōu)化配置,以適應不同的熱處理操作。借助真空泵,窯爐可實現真空冷抽,從而降低預沖洗過程中的氣體消耗量。
技術參數:
型號
溫度
內尺寸mm
容積
外尺寸mm
連接功率
電氣
重量
°C
寬
深
高
升
千瓦
連接*
公斤
N 21/M
1100
220
300
150
10
830
950
760
3相
290
N 41/M
320
450
20
930
13
420
N 81/M
700
50
1250
1550
900
1000
N 161/M
500
240
90
1300
1050
30
1110
N 321/M
180
1900
47
N 41/MA
1350
N 81/MA
1870
1030
N 161/MA
1140
N 321/MA
2220
1580
主要特點:
溫度1100 °C氣密性密封罐用于規(guī)定氣氛的熱處理操作可實現不可燃保護氣如氮氣、氬氣、混合氣(95/5)操作開放的冷卻水系統用于爐門密封隔熱板防止爐門上溫度下降密封罐環(huán)周加熱確保良好的溫度均勻度手動供氣系統帶有切斷閥、流量計和調節(jié)閥,管道已連接
帶可選連接裝置的密封罐可以連接真空泵,進行真空冷抽供貨范圍包含支架針對各類控制器的說明參見“測量和調節(jié)技術”
額外配置用于其他不可燃氣體操作的配置自動供氣系統,帶MFC流量調節(jié)器,用于變換的體積流量,由PLC調控用于氫氣操作的供氣系統,配備全面的安全系統和PLC控制裝置,用于安全功能監(jiān)控用于密封罐真空冷抽的真空泵帶快速運轉風扇的氣體循環(huán)系統,用于500 °C以下的工作溫度多區(qū)控溫和氣體循環(huán)系統,用于500 °C和800 °C之間的工作溫度多區(qū)控溫系統,用于800 °C以上的工作溫度用于縮短作業(yè)時間的冷卻系統用于脫蠟處理或保護氣氣氛下熱解操作的系統裝置,配有規(guī)定的排放口和安全技術通過密封罐內腔進行溫度調控,溫度測量在密封罐內部和外面進行,采用級聯調節(jié)方式
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